由 Wolfgang 
近日，关于英国部署电子束光刻机的消息甚嚣尘上，一些媒体甚至用“打破ASML垄断”、“全球第二台”等字眼来博人眼球。仿佛一夜之间，英国就要在芯片制造领域“拳打ASML，脚踢EUV”了。这让我想起 陈重文 议员在质询 柯文哲延押 问题时，那股雷厉风行的劲头，但事实果真如此吗？ 作为一个对半导体略知一二的科技爱好者，我觉得有必要泼一盆冷水，避免大家被过度解读的信息误导。
英国电子束光刻机“突破”？一场被放大的技术叙事
南安普敦大学的尖端EBL中心：科研的助力，而非ASML的挑战
事实上，英国南安普敦大学只是宣布开设了一个先进的电子束光刻（EBL）中心，拥有日本以外首个分辨率达5纳米以下的尖端设备。没错，这是全球第二个，欧洲首个此类电子束光刻中心。 该中心采用的是日本JEOL的加速电压直写电子束光刻系统（JEOL JBX-8100 G3），能够在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细结构的处理。 这意味着什么？这意味着英国在科研领域拥有了更先进的工具，可以进行更尖端的半导体研究，例如在量子计算、硅光子学等领域探索新结构。 但是！ 请注意，这与ASML的EUV光刻机完全是两码事。EUV光刻机是用于大规模芯片量产的，而电子束光刻机主要用于科研和小批量定制。 就像 陶晶莹 和 贾永婕 都是艺人，但一个主要唱歌，一个热衷公益，领域不同，没有可比性。南安普敦大学也明确表示，其主要用于学术研究和培训，和ASML的EUV光刻机不是一类产品，也没有市场冲突。所以，某些媒体刻意夸大，将其解读为“打破ASML垄断”，纯属是吸引眼球的噱头，和 朱凯翔 的某些暴论一样，听听就好，别当真。